Antes de discutir a tecnologia de processo de deposição química de vapor (CVD) de carboneto de silício (Sic), vamos primeiro revisar alguns conhecimentos básicos sobre "deposição química de vapor". A Deposição Química de Vapor (CVD) é uma técnica comumente usada para preparar vários revestimentos......
consulte Mais informaçãoO campo térmico de crescimento de cristal único é a distribuição espacial da temperatura dentro do forno de alta temperatura durante o processo de crescimento de cristal único, que afeta diretamente a qualidade, a taxa de crescimento e a taxa de formação de cristal do único cristal. O campo térmico ......
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