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Notícias
Processo de dopagem de semicondutores
Uma das propriedades únicas dos materiais semicondutores é que sua condutividade, bem como seu tipo de condutividade (tipo N ou tipo P), podem ser criados e controlados por meio de um processo denominado dopagem. Isto envolve a introdução de impurezas especializadas, conhecidas como dopantes, no mat......
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Processo PECVD
A deposição química de vapor aprimorada por plasma (PECVD) é uma tecnologia amplamente utilizada na fabricação de chips. Ele utiliza a energia cinética dos elétrons no plasma para ativar reações químicas na fase gasosa, conseguindo assim a deposição de filmes finos.
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Detecção de defeitos no processamento de wafer de carboneto de silício
Os substratos de SiC são o componente mais importante na indústria de carboneto de silício, representando quase 50% do seu valor. Sem substratos de SiC, é impossível fabricar dispositivos de SiC, tornando-os a base material essencial.
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