A cerâmica de carboneto de silício é o material cerâmico avançado que consiste principalmente de carbono e silício. Apresentando excelentes características de desempenho, a cerâmica de carboneto de silício é amplamente utilizada nas indústrias de ponta, incluindo usinagem mecânica, fabricação de sem......
consulte Mais informaçãoNo processo de deposição de filme fino na fabricação de chips, duas tecnologias são frequentemente mencionadas juntas, mas são fundamentalmente diferentes – epitaxia e deposição de vapor químico. São como primos, ambos pertencentes à família do “crescimento de vapor”, mas com características e ponto......
consulte Mais informaçãoQuando engenheiros e equipes de compras procuram componentes que possam sobreviver a condições adversas de processo, o verdadeiro problema raramente é um único modo de falha.
consulte Mais informaçãoA tecnologia de processo SiC de Deposição Química de Vapor (CVD) é essencial para a fabricação de eletrônicos de potência de alto desempenho, permitindo o crescimento epitaxial preciso de camadas de carboneto de silício de alta pureza em wafers de substrato. Ao aproveitar o amplo bandgap e a conduti......
consulte Mais informaçãoNo processo de deposição química de vapor (CVD), os gases utilizados incluem principalmente gases reagentes e gases transportadores. Os gases reagentes fornecem átomos ou moléculas para o material depositado, enquanto os gases transportadores são usados para diluir e controlar o ambiente de reação......
consulte Mais informaçãoDiferentes cenários de aplicação têm requisitos variados de desempenho para produtos de grafite, tornando a seleção precisa do material uma etapa central na aplicação de produtos de grafite. A escolha de componentes de grafite com desempenho adequado aos cenários de aplicação pode não apenas estende......
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