Na indústria de semicondutores, as camadas epitaxiais desempenham um papel crucial, formando filmes finos específicos de cristal único sobre um substrato de wafer, conhecidos coletivamente como wafers epitaxiais. Particularmente, camadas epitaxiais de carboneto de silício (SiC) cultivadas em substra......
consulte Mais informaçãoAtualmente, a maioria dos fabricantes de substrato de SiC usa um novo projeto de processo de campo térmico de cadinho com cilindros de grafite poroso: colocando matérias-primas de partículas de SiC de alta pureza entre a parede do cadinho de grafite e o cilindro de grafite poroso, enquanto aprofunda......
consulte Mais informaçãoO crescimento epitaxial refere-se ao processo de crescimento de uma camada monocristalina cristalograficamente bem ordenada em um substrato. De modo geral, o crescimento epitaxial envolve o cultivo de uma camada cristalina em um substrato monocristalino, com a camada cultivada compartilhando a mesma......
consulte Mais informaçãoRecentemente, a indústria de semicondutores continuou a prestar cada vez mais atenção à tecnologia de nitreto de gálio (GaN). Devido às suas excelentes propriedades eletrônicas, os dispositivos de nitreto de gálio têm aplicações importantes em muitos campos de alta tecnologia:
consulte Mais informaçãoA Deposição Química de Vapor (CVD) refere-se a uma tecnologia de processo onde múltiplos reagentes gasosos em pressões parciais variadas sofrem uma reação química sob condições específicas de temperatura e pressão. A substância sólida resultante deposita-se na superfície do material do substrato, ob......
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