Um forno de difusão é um equipamento especializado usado para introduzir impurezas em wafers semicondutores de maneira controlada. Essas impurezas, chamadas dopantes, alteram as propriedades elétricas dos semicondutores, permitindo a fabricação de diferentes tipos de componentes eletrônicos. Este pr......
consulte Mais informaçãoExistem dois tipos de epitaxia: homogênea e heterogênea. Para produzir dispositivos de SiC com resistência específica e outros parâmetros para diferentes aplicações, o substrato deve atender às condições de epitaxia antes que a produção possa começar. A qualidade da epitaxia afeta o desempenho do di......
consulte Mais informação