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Notícias

Qual é a diferença entre grafitização e carbonização

Concluindo, tanto a grafitização quanto a carbonização são processos industriais que envolvem carbono como reagente ou produto. A carbonização refere-se ao processo de conversão de matéria orgânica em carbono, enquanto a grafitização envolve a transformação de carbono em grafite. Portanto, a carboni......

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Parâmetros do processo de gravação

A gravação é uma etapa crítica na fabricação de chips, usada para criar estruturas de circuitos minúsculas em wafers de silício.

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A fusão de IA e física: inovação tecnológica CVD por trás do Prêmio Nobel

O recente anúncio do Prémio Nobel da Física de 2024 trouxe uma atenção sem precedentes ao campo da inteligência artificial.

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Processo de dopagem de semicondutores

Uma das propriedades únicas dos materiais semicondutores é que sua condutividade, bem como seu tipo de condutividade (tipo N ou tipo P), podem ser criados e controlados por meio de um processo denominado dopagem. Isto envolve a introdução de impurezas especializadas, conhecidas como dopantes, no mat......

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Processo PECVD

A deposição química de vapor aprimorada por plasma (PECVD) é uma tecnologia amplamente utilizada na fabricação de chips. Ele utiliza a energia cinética dos elétrons no plasma para ativar reações químicas na fase gasosa, conseguindo assim a deposição de filmes finos.

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Detecção de defeitos no processamento de wafer de carboneto de silício

Os substratos de SiC são o componente mais importante na indústria de carboneto de silício, representando quase 50% do seu valor. Sem substratos de SiC, é impossível fabricar dispositivos de SiC, tornando-os a base material essencial.

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