A Semicorex fornece filme fino personalizado HEMT (nitreto de gálio) GaN epitaxia em substratos de Si/SiC/GaN. A Semicorex está empenhada em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos, estamos ansiosos para se tornar seu parceiro de longo prazo na China.
A epitaxia de Nitreto de Gálio GaN é um material semicondutor de banda larga com excelentes propriedades elétricas e ópticas, tornando-o um candidato promissor para vários dispositivos eletrônicos e optoeletrônicos.
A epitaxia de GaN revolucionou o desenvolvimento de dispositivos baseados em GaN, incluindo eletrônicos de alta potência, iluminação de estado sólido (LEDs) e dispositivos de alta frequência. A capacidade de cultivar camadas epitaxiais GaN de alta qualidade com controle preciso sobre as propriedades do material melhorou significativamente o desempenho, a eficiência e a confiabilidade dos dispositivos GaN, contribuindo para avanços em vários setores, como eletrônica de potência, telecomunicações e eletrônicos de consumo.