Porta -bolas de revestimento CVD

O porta-bolas de revestimento CVD semicorex é uma parte de alto desempenho, projetada para apoiar e manter as bolachas durante o crescimento preciso de materiais semicondutores usando processos de epitaxia. É revestido com carboneto de Tantalum (TAC), que contribui para sua excelente durabilidade e confiabilidade em condições exigentes.

Principais recursos:

Tantalum Carboking Coating: O revestimento do suporte da bolacha com carboneto de tântalo (TAC) é devido à sua dureza, resistência ao desgaste e estabilidade térmica. Esse revestimento contribui significativamente para a capacidade do produto de resistir a ambientes químicos adversos, bem como altas temperaturas e encontra aplicação no suporte exatamente o que é necessário da fabricação de semicondutores.

Tecnologia de revestimento supercrítico: o revestimento é aplicado usando um método de deposição de fluidos supercrítico que garante a camada uniforme e densa do TAC. A tecnologia avançada de revestimento fornece uma melhor adesão e redução de defeitos, oferecendo um revestimento de alta qualidade e duradouro com a longevidade garantida.

Espessura do revestimento: o revestimento TAC pode atingir uma espessura de até 120 mícrons, fornecendo um equilíbrio ideal de durabilidade e precisão. Essa espessura garante que o porta -bolas possa suportar altas temperaturas, pressões e ambientes reativos sem comprometer sua integridade estrutural.

Excelente estabilidade térmica: o revestimento de carboneto de Tantalum oferece excelente estabilidade térmica, permitindo que o suporte da bolacha tenha desempenho confiável nas condições de alta temperatura típicas dos processos de epitaxia semicondutores. Esse recurso é crucial para manter resultados consistentes e garantir a qualidade do material semicondutor.

Corrosão e resistência ao desgaste: o revestimento TAC oferece excelente resistência à corrosão e ao desgaste, garantindo que o suporte da bolacha possa suportar a exposição a gases e produtos químicos reativos comumente encontrados nos processos de semicondutores. Essa durabilidade prolonga a vida útil do produto e reduz a necessidade de substituições frequentes, aumentando a eficiência operacional.

Aplicações:

O suporte da bolacha de revestimento CVD é projetado especificamente para processos de epitaxia semicondutores, onde controle preciso e integridade do material são essenciais. É usado em técnicas como epitaxia de feixe molecular (MBE), deposição de vapor químico (DCV) e deposição de vapor químico orgânico metálico (MOCVD), onde o suporte de bolacha deve suportar temperaturas extremas e ambientes reativos.

Na epitaxia semicondutores, a precisão é crucial para o crescimento de filmes finos de alta qualidade em um substrato. O titular da bolacha de revestimento CVD garante que as bolachas sejam apoiadas e mantidas com segurança sob condições ideais, contribuindo para a produção consistente de materiais semicondutores de alta qualidade.

O porta-bolas de revestimento CVD semicorex é projetado usando materiais de ponta e tecnologias avançadas de revestimento para atender às altas demandas da epitaxia de semicondutores. O uso de deposição de fluido supercrítico para um revestimento tac espesso e uniforme garante durabilidade, precisão e longevidade incomparáveis. Com sua resistência térmica e química superior, nosso porta -bolas foi projetado para oferecer desempenho confiável nos ambientes mais desafiadores, ajudando a melhorar a eficiência dos seus processos de fabricação de semicondutores.