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Tanque de limpeza

Tanque de limpeza

O tanque de limpeza Semicorex, um componente essencial no processo de fabricação de semicondutores, é projetado com precisão e experiência para atender às rigorosas demandas da indústria. A Semicorex está comprometida em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China*.

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Descrição do produto

O tanque de limpeza Semicorex é fabricado em quartzo de alta qualidade, oferece desempenho e confiabilidade incomparáveis, garantindo que os wafers semicondutores sejam completamente limpos e livres de quaisquer contaminantes que possam comprometer sua integridade.

O quartzo é escolhido para a construção do tanque de limpeza devido à sua excepcional resistência química e estabilidade térmica. O tanque de limpeza de quartzo resiste aos produtos químicos comumente usados ​​em processos de limpeza, como ácido fluorídrico e outros agentes fortes. Sua estabilidade térmica garante que ele possa suportar as altas temperaturas frequentemente exigidas no processamento de semicondutores sem deformar ou degradar, mantendo sua integridade estrutural e desempenho por longos períodos.

O design do tanque de limpeza foi meticulosamente projetado para otimizar o processo de limpeza. Seu interior liso e uniforme minimiza a geração de partículas e evita o acúmulo de contaminantes. O tanque de limpeza foi projetado para acomodar vários métodos de limpeza, incluindo banhos químicos, limpeza ultrassônica e limpeza megassônica. Cada método tem suas vantagens específicas, e a versatilidade do tanque de limpeza permite que ele seja utilizado em múltiplas etapas do processo de limpeza, desde a limpeza inicial do wafer até o enxágue e secagem finais.

Nos banhos químicos, o tanque de limpeza garante que os wafers sejam expostos uniformemente às soluções de limpeza, promovendo uma limpeza consistente e completa. A exposição uniforme é crítica na remoção de partículas, resíduos orgânicos e contaminantes metálicos da superfície do wafer. Na limpeza ultrassônica e megassônica, ondas sonoras de alta frequência criam bolhas microscópicas de cavitação na solução de limpeza. Quando essas bolhas entram em colapso, elas geram poderosas ondas de choque que desalojam e removem contaminantes da superfície do wafer. A robusta construção de quartzo do tanque de limpeza pode suportar as condições intensas geradas por esses métodos de limpeza, garantindo durabilidade e eficácia a longo prazo.


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