Disco cerâmico AlN

A condutividade térmica do AlN Ceramic Disc varia entre 170 e 220 W/m.K. Essa condutividade térmica é significativamente maior – 5 a 8,5 vezes maior – do que a da cerâmica de alumina tradicional, tornando os discos cerâmicos de AlN ideais para aplicações onde a remoção eficiente de calor é crítica. Isto os torna particularmente valiosos na indústria eletrônica, onde a dissipação de calor é fundamental para manter o desempenho e a longevidade dos dispositivos eletrônicos.

O coeficiente de expansão térmica dos discos cerâmicos de AlN é semelhante ao do silício (Si), que desempenha um papel crucial na garantia da confiabilidade dos chips de silício. Esta semelhança ajuda a minimizar o estresse térmico durante as flutuações de temperatura, aumentando assim a durabilidade e o desempenho dos componentes eletrônicos à base de Si. Esta propriedade é particularmente benéfica em aplicações de alta precisão onde a incompatibilidade de expansão térmica pode levar à falha ou à redução da eficiência.

Os discos cerâmicos AlN também são conhecidos por sua alta resistência de isolamento e resistência à tensão. Apesar dessas altas propriedades de isolamento, eles mantêm uma baixa constante dielétrica e perdas dielétricas, tornando-os ideais para aplicações na área de eletrônica onde são necessários isolamento elétrico e transmissão eficiente de sinais. Essas propriedades permitem que os discos cerâmicos AlN sejam usados ​​em dispositivos de comunicação de alta frequência, garantindo desempenho ideal e perda mínima de energia.

A resistência mecânica dos discos cerâmicos AlN é outra vantagem importante. Com resistência mecânica que chega a 450 MPa, esses discos apresentam corpo cerâmico muito denso e isento de porosidade, o que melhora sua integridade estrutural e resistência aos esforços mecânicos. Essa robustez garante que os discos cerâmicos AlN possam suportar os rigores de aplicações exigentes sem comprometer seu desempenho ou confiabilidade.

Outra característica atraente dos discos cerâmicos AlN é a sua pureza, que pode chegar a 99%. Este alto nível de pureza garante que o material esteja livre de contaminantes e atenda a rigorosas regulamentações ambientais e de segurança, como RoHS e REACH. A natureza não tóxica dos discos cerâmicos AlN os torna adequados para uma ampla gama de aplicações, incluindo aquelas onde a segurança do material é uma preocupação crítica.

No contexto da fabricação de semicondutores, os discos cerâmicos AlN apresentam excelente resistência ao plasma. Durante o processamento de semicondutores, gases precursores voláteis, plasma e altas temperaturas são usados ​​para depositar filmes finos de alta qualidade em wafers. A durabilidade dos discos cerâmicos AlN permite que eles resistam a esses ambientes agressivos, tornando-os perfeitos para uso em câmaras de deposição e ferramentas de manuseio de wafers.

Os discos cerâmicos AlN encontram diversas aplicações em vários setores. No campo da eletrônica, servem como substratos para dispositivos eletrônicos de alta potência, onde sua condutividade térmica e propriedades de isolamento elétrico são críticas. Eles também são usados ​​como dissipadores de calor para LEDs de alta potência, gerenciando efetivamente a dissipação de calor para garantir desempenho e longevidade ideais.

Além da eletrônica, os discos cerâmicos AlN são utilizados em dispositivos de comunicação de alta frequência devido às suas propriedades térmicas e elétricas favoráveis. Sua aplicação se estende a sistemas laser e componentes de micro-ondas, onde sua capacidade de lidar com alta potência e manter a integridade do sinal é indispensável.

Além disso, os discos cerâmicos AlN são empregados como ferramentas de corte, aproveitando suas excelentes propriedades térmicas e mecânicas para suportar as altas tensões e temperaturas envolvidas nas operações de corte. Sua capacidade de manter a nitidez e a durabilidade sob condições extremas os torna a escolha preferida para aplicações de corte de precisão.