Sic tampa

A tampa do SiC semicorex é uma parte vital projetada especificamente para o processamento de semicondutores. Ele foi projetado para os ambientes mais difíceis nos aplicações de epitaxia, implantação de íons e alta temperatura. É fabricado a partir de carboneto de silício ultra-puro, que possui propriedades de material extremamente estável e precisão projetada. A consistência, a durabilidade e a limpeza a longo prazo são os principais motivos para selecionar a tampa do semicorex sic para uso em processos avançados de fabricação de semicondutores.

Carboneto de silício (sic)Possui uma variedade de propriedades únicas em comparação com a cerâmica tradicional ou materiais metálicos. Uma das principais vantagens do SiC é sua resistência a altas temperaturas. O SIC pode manter sua integridade estrutural e estabilidade mecânica - por longos períodos de tempo, mesmo a temperaturas elevadas. Isso torna o SIC ideal para processos como epitaxia de deposição de vapor químico (CVD) ou implante de íons de alta energia. Metais e plásticos se deformariam, oxidam ou contaminariam a temperaturas extremas, enquanto o SIC manterá sua estabilidade dimensional e não interagirá positivamente com as bolachas sendo processadas.

A resistência química é outra característica distintiva das tampas do SiC. No processamento de semicondutores, os ambientes que você pode encontrar com gases corrosivos, plasma ou produtos químicos reativos não são incomuns. Nesses cenários, a superfície do SiC fornecerá uma barreira inerte para resistir aos contaminantes de degradar a superfície ao longo do tempo, resultando em uma vida eficaz mais longa. Essa longevidade equivale a custos de manutenção reduzidos, tempo reduzido de tempo de inatividade e repetibilidade nos ciclos de processo estendidos. Esses fatores tornam a tampa do SIC uma opção melhor para FABs que requerem produção contínua de alto rendimento em comparação com os materiais tradicionais.

Assim como a resistência química, a pureza também é fundamental na aplicação de semicondutores. A presença de contaminantes de rastreamento pode ter um impacto negativo no desempenho e rendimento do dispositivo. A tampa do SIC é feita de materiais de carboneto de silício de alta pureza, que excluem a possibilidade de impurezas metálicas que fluem para o ambiente de processo. Além disso, é garantido que seja o mais limpo possível e estável no que se refere a contaminantes e forças externas que afetam o desempenho da tampa, o que é fundamental para cumprir os requisitos de fabricação de semicondutores atuais, onde objetos de nível de nanômetro devem ser definidos com precisão e controle de contaminantes sem dimensão. A flexibilidade que a tampa do SIC oferece é um valor adicional. Cada componente pode ser projetado para as necessidades de um cliente específico em relação ao tamanho, geometria e acabamento da superfície. Isso garante que a tampa possa ser facilmente incorporada e integrada a diferentes modelos de equipamentos e ferramentas de processo.

A precisão da usinagem deSicAs pálpebras melhoram ainda mais o valor das tampas do SiC. As ferramentas semicondutores requerem a maior precisão mecânica devido a grandes flutuações na compatibilidade dimensional e na uniformidade da superfície, mesmo pequenas variações na uniformidade e na espessura do material podem comprometer gravemente as consistências do processo de uma ferramenta, a taxa de transferência e a qualidade do produto. Por meio de tecnologias avançadas no processamento de materiais, as tampas do SiC têm uma nitidez, uniformidade da superfície e tolerâncias que excedem os padrões convencionais da indústria, oferecendo espessura da superfície de vedação mecânica de f, normalmente, milhares/milhares de polegadas (TIR). A alta planicidade permite a vedação de um ajuste mecânico, bem como a garantia dos limites de grau de laboratório para experimentar condições no processo de produção. Isso é particularmente aparente em Fabs de alto volume, onde a ênfase na repetibilidade das condições é crucial para o desempenho dos dispositivos semicondutores. Quando você busca a engenharia de precisão, ela fala diretamente para produzir otimização. When SiC lids are in typical practical use, for example, in epitaxy where the SiC lid sits thermally and chemically stable to get in the reactor, or in an ion implantation system to resist energetic particles ejected from a high power beam of ions hitting the lid, their mechanical configurations and properties maintained their performance under constant bombardment of energetic solids, stable to operating conditions and maintenance were Os pretendentes em potencial no motivo pelo qual as tampas do SIC estão destinadas a ser sinônimo de produção de semicondutores de estado sólido.

A tampa semicorex SiC representa o melhor da ciência dos materiais e da engenharia de materiais e oferece o melhor desempenho possível no ambiente de semicondutores, entre suas tolerâncias de alta temperatura, resistência química, pureza ideal, fabricação personalizada, trabalho preciso de usinagem, a tampa da SIC realizará.