Jarra de sino de quartzo semicondutor

Semicorex Semiconductor Quartz Bell Jar é normalmente fabricado a partir de quartzo sintético fundido, um material conhecido por sua pureza excepcional, resistência a altas temperaturas e baixas propriedades de expansão térmica. Isto garante que a câmara não introduza contaminantes ou impurezas no processo de fabricação de semicondutores.

A redoma de quartzo semicondutora é normalmente cilíndrica ou em forma de cúpula, com uma base plana ou ligeiramente curvada para acomodar wafers ou substratos semicondutores. Ele apresenta um mecanismo de vedação hermético projetado com precisão, como um flange ou anel de vedação, para manter um vácuo ou uma atmosfera controlada dentro da câmara durante o processamento.

A redoma de quartzo semicondutora oferece excelente clareza óptica, permitindo que os operadores monitorem visualmente os processos dentro da câmara sem comprometer a precisão ou introduzir interferência. O quartzo é altamente resistente ao ataque químico da maioria dos ácidos, bases e solventes comumente usados ​​em processos de fabricação de semicondutores. Isto garante a integridade da câmara e evita a contaminação dos substratos.

O quartzo tem um alto ponto de fusão e estabilidade térmica, permitindo que a Bell Jar de quartzo semicondutor resista às temperaturas elevadas encontradas durante os processos de deposição ou recozimento sem deformação ou degradação.

Aplicações:

Deposição: Os Bell Jars de quartzo semicondutores são usados ​​em várias técnicas de deposição, como deposição química de vapor (CVD), deposição física de vapor (PVD) e deposição de camada atômica (ALD) para depositar filmes finos de materiais em substratos semicondutores com precisão e uniformidade.

Gravura: Eles são empregados em processos de gravação a plasma para remover seletivamente material de wafers semicondutores, criando padrões e estruturas intrincadas com alta precisão e repetibilidade.

Recozimento: Bell jars são utilizados em processos de recozimento para submeter wafers semicondutores a tratamento térmico controlado, facilitando a cristalização, ativação de dopantes e alívio de tensão em filmes depositados.