Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor é um produto altamente durável e confiável para o crescimento de camadas epixiais em chips de wafer. Sua resistência à oxidação em alta temperatura e alta pureza o tornam adequado para uso na indústria de semicondutores. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação fazem dele a escolha ideal para crescimento de camada epixial de alta qualidade.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaSe você precisa de um susceptor de grafite de alto desempenho para uso em aplicações de fabricação de semicondutores, o reator de deposição epitaxial de silício Semicorex em barril é a escolha ideal. Seu revestimento de SiC de alta pureza e condutividade térmica excepcional fornecem proteção superior e propriedades de distribuição de calor, tornando-o a escolha certa para desempenho confiável e consistente mesmo nos ambientes mais desafiadores.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaSe você precisa de um susceptor de grafite com condutividade térmica excepcional e propriedades de distribuição de calor, não procure além do Sistema Epi de Barril Aquecido Indutivamente Semicorex. Seu revestimento de SiC de alta pureza oferece proteção superior em ambientes corrosivos e de alta temperatura, tornando-o a escolha ideal para uso em aplicações de fabricação de semicondutores.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaCom suas excepcionais propriedades de condutividade térmica e distribuição de calor, a Estrutura de Barril Semicorex para Reator Epitaxial Semicondutor é a escolha perfeita para uso em processos LPE e outras aplicações de fabricação de semicondutores. Seu revestimento de SiC de alta pureza oferece proteção superior em ambientes corrosivos e de alta temperatura.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaSe você está procurando um susceptor de grafite de alto desempenho para uso em aplicações de fabricação de semicondutores, o susceptor de barril de grafite revestido com SiC Semicorex é a escolha ideal. Sua excepcional condutividade térmica e propriedades de distribuição de calor o tornam a escolha ideal para desempenho confiável e consistente em ambientes corrosivos e de alta temperatura.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaCom seu alto ponto de fusão, resistência à oxidação e resistência à corrosão, o Susceptor de Crescimento de Cristal Revestido com SiC Semicorex é a escolha ideal para uso em aplicações de crescimento de cristal único. Seu revestimento de carboneto de silício oferece excelentes propriedades de planicidade e distribuição de calor, tornando-o a escolha ideal para ambientes de alta temperatura.
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