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Transportador de wafer

Transportador de wafer

O transportador de wafer de grafite revestido com SiC Semicorex foi projetado para fornecer manuseio confiável de wafer durante processos de crescimento epitaxial de semicondutores, oferecendo resistência a altas temperaturas e excelente condutividade térmica. Com tecnologia avançada de materiais e foco na precisão, a Semicorex oferece desempenho e durabilidade superiores, garantindo resultados ideais para as aplicações de semicondutores mais exigentes.*

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Porta-wafers de grafite

Porta-wafers de grafite

O suporte de wafer de grafite revestido com SiC Semicorex é um componente de alto desempenho projetado para manuseio preciso de wafer em processos de crescimento de epitaxia de semicondutores. A experiência da Semicorex em materiais e fabricação avançados garante que nossos produtos ofereçam confiabilidade, durabilidade e personalização incomparáveis ​​para a produção ideal de semicondutores.*

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Cadinho cerâmico AlN

Cadinho cerâmico AlN

Projetado para suportar condições extremas, o Cadinho Cerâmico AlN apresentado pela Semicorex é uma ferramenta indispensável para profissionais que trabalham com metais não ferrosos e materiais semicondutores como o arsenieto de gálio.

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Barco de Alumina

Barco de Alumina

O Alumina Boat da Semicorex encontra seu nicho na indústria de semicondutores, máquinas em geral e processos de alta temperatura, mostrando-se indispensável para profissionais que buscam confiabilidade e precisão.

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Placa cerâmica SiC

Placa cerâmica SiC

A placa cerâmica Semicorex SiC oferece desempenho incomparável em ambientes que exigem resistência ao desgaste, resistência à corrosão e estabilidade a altas temperaturas. Este produto foi projetado para uso como placas de revestimento e peças de suporte em uma variedade de aplicações exigentes.

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Bandeja de carboneto de silício

Bandeja de carboneto de silício

A bandeja de carboneto de silício Semicorex foi construída para suportar condições extremas e, ao mesmo tempo, garantir um desempenho notável. Desempenha um papel crucial no processo de gravação ICP, na difusão de semicondutores e no processo epitaxial MOCVD.

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