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Notícias
Compreendendo a deposição química de vapor (CVD): uma visão geral abrangente
A Deposição Química de Vapor (CVD) é uma técnica versátil de deposição de filme fino amplamente empregada na indústria de semicondutores para a fabricação de filmes finos conformados de alta qualidade em vários substratos. Este processo envolve reações químicas de precursores gasosos sobre uma super......
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Bolacha de Silício
O material de silício é um material sólido com certas propriedades elétricas semicondutoras e estabilidade física e fornece suporte de substrato para o processo subsequente de fabricação de circuitos integrados. É um material chave para circuitos integrados baseados em silício. Mais de 95% dos dispo......
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Barcos SiC vs. Barcos de Quartzo: Uso Atual e Tendências Futuras na Fabricação de Semicondutores
Este artigo investiga o uso e a trajetória futura dos barcos de carboneto de silício (SiC) em relação aos barcos de quartzo na indústria de semicondutores, focando especificamente em suas aplicações na fabricação de células solares.
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Wafers epitaxiais de nitreto de gálio: uma introdução ao processo de fabricação
O crescimento do wafer epitaxial de nitreto de gálio (GaN) é um processo complexo, geralmente utilizando um método de duas etapas. Este método envolve vários estágios críticos, incluindo cozimento em alta temperatura, crescimento da camada tampão, recristalização e recozimento. Ao controlar meticulo......
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Qual é a diferença entre wafers epitaxiais e difusos
Tanto os wafers epitaxiais quanto os difusos são materiais essenciais na fabricação de semicondutores, mas diferem significativamente em seus processos de fabricação e aplicações alvo. Este artigo investiga as principais distinções entre esses tipos de wafer.
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