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TSMC: produção experimental de risco de processo de 2nm no próximo ano

Em seu relatório anual recém-lançado, o presidente da TSMC, Deyin Liu, e o CEO Chieh-Jia Wei revelaram o progresso relacionado ao processo de 2 nm.

Cenários de Aplicação para Camadas Epitaxiais

Sabemos que outras camadas epitaxiais precisam ser construídas sobre alguns substratos de wafer para a fabricação de dispositivos, normalmente dispositivos emissores de luz LED, que requerem camadas epitaxiais de GaAs sobre substratos de silício; As camadas epitaxiais de SiC são cultivadas sobre sub......

Discutindo o forno CVD

A China continuou sendo o maior mercado de equipamentos de semicondutores

As vendas mundiais de equipamentos de fabricação de semicondutores aumentaram 5%, de US$ 102,6 bilhões em 2021 para um recorde histórico de US$ 107,6 bilhões no ano passado, SEMI, a associação da indústria que representa a cadeia global de suprimentos de design e fabricação de eletrônicos.

Processo CVD para epitaxia de wafer de SiC

O processo CVD para epitaxia de wafer de SiC envolve a deposição de filmes de SiC em um substrato de SiC usando uma reação em fase gasosa. Os gases precursores de SiC, tipicamente metiltriclorossilano (MTS) e etileno (C2H4), são introduzidos em uma câmara de reação onde o substrato de SiC é aquecido......

O Japão restringiu recentemente as exportações de 23 tipos de equipamentos de fabricação de semicondutores

O Japão restringiu recentemente as exportações de 23 tipos de equipamentos de fabricação de semicondutores. O anúncio causou repercussões em todo o setor, pois espera-se que a mudança tenha um impacto significativo nas cadeias de suprimentos globais para a fabricação de semicondutores.