Pó de grafite de alta pureza

Semicorex de alta purezagrafiteo pó é um material crítico na indústria de semicondutores. Com níveis excepcionais de pureza e propriedades físicas e químicas superiores, este material é indispensável para aplicações que exigem rigorosos padrões de desempenho.

Principais recursos

• Pureza excepcional: O pó de grafite de alta pureza normalmente atinge um teor de carbono superior a 99,9%, garantindo contaminação mínima durante o processo de crescimento do cristal. Este nível de pureza é essencial para manter a integridade e a qualidade dos wafers semicondutores.
• Excelente condutividade térmica: A condutividade térmica superior do material permite uma distribuição uniforme de calor, fundamental para manter ambientes de crescimento controlados para cristais semicondutores.
• Resistência a altas temperaturas: O pó de grafite de alta pureza pode suportar temperaturas extremas sem degradação, tornando-o ideal para fornos de alta temperatura usados ​​na fabricação de semicondutores.
• Estabilidade Química: Sua resistência a reações químicas garante durabilidade e confiabilidade durante exposição prolongada a condições adversas, incluindo altas temperaturas e ambientes reativos.
• Tamanho de partícula personalizável: Disponível em vários tamanhos de partícula, o pó pode ser adaptado para atender às necessidades específicas de diferentes processos de crescimento de cristais semicondutores.

Aplicações em crescimento de cristais semicondutores

1. Crescimento do cristal SiC:

O pó de grafite de alta pureza é amplamente utilizado no crescimento de cristais de carboneto de silício (SiC), um processo crucial para a produção de dispositivos semicondutores avançados. O pó é utilizado na produção de componentes porosos de grafite, como cadinhos e materiais de isolamento, que suportam o crescimento de cristais de SiC de alta qualidade. Sua alta pureza minimiza as impurezas, melhorando assim as propriedades elétricas e térmicas dos cristais resultantes.

2. Crescimento de cristais de silício fotovoltaico:

Na indústria fotovoltaica, o pó de grafite de alta pureza é empregado na produção de componentes para crescimento de silício monocristalino e policristalino. Esses componentes, como moldes e aquecedores, garantem qualidade e rendimento consistentes na fabricação de pastilhas de silício para células solares.

3. Deposição da Camada Epitaxial:

O material também é parte integrante dos processos de epitaxia, onde são necessárias condições térmicas e químicas precisas para o crescimento de camadas de material semicondutor. O pó de grafite de alta pureza contribui para a fabricação de componentes epitaxiais, como susceptores, que exigem desempenho térmico e químico excepcional.

4. Isolamento térmico à base de grafite:

Em fornos de alta temperatura usados ​​para crescimento de cristais, o pó de grafite é utilizado para criar materiais de isolamento que mantêm ambientes térmicos estáveis. Isso aumenta a eficiência do processo e garante a uniformidade dos cristais cultivados.

Alta pureza do SemicorexgrafiteO pó se destaca por sua qualidade incomparável e design voltado para a aplicação. Nossos rigorosos processos de produção garantem consistência, alta pureza e especificações personalizadas para atender aos requisitos exigentes da indústria de semicondutores.

O pó de grafite de alta pureza Semicorex é um material fundamental no crescimento de cristais semicondutores, oferecendo desempenho incomparável em aplicações exigentes. Suas excepcionais propriedades térmicas, químicas e estruturais garantem a produção bem-sucedida de dispositivos semicondutores avançados. Com seu compromisso com a inovação e qualidade, a Semicorex oferece uma solução confiável para fabricantes que buscam alcançar a excelência em processos de semicondutores.