O Campo Térmico de Grafite Semicorex combina ciência de materiais de ponta com um profundo conhecimento dos processos de crescimento de cristais, oferecendo uma solução inovadora que capacita a indústria de semicondutores a alcançar novos níveis de desempenho, eficiência e economia.**
A Semicorex aborda os desafios das aplicações de crescimento de cristais com seu campo térmico de grafite de alta pureza de última geração. O Campo Térmico de Grafite, criado a partir de grafite isostática de alta pureza meticulosamente selecionada, oferece propriedades significativas que melhoram significativamente o desempenho, a confiabilidade e a economia dos processos de crescimento de silício de cristal único:
Uniformidade redefinida:O campo térmico de grafite Semicorex representa uniformidade excepcional em sua estrutura de aquecimento, garantindo distribuição homogênea de temperatura em toda a zona de crescimento. Essa uniformidade minimiza as tensões térmicas dentro do cristal em crescimento, levando à redução da densidade dos defeitos, à melhoria da qualidade do cristal e a maiores rendimentos de wafers utilizáveis.
Eficiência de energia:A excepcional condutividade elétrica do campo térmico de grafite permite uma transferência de calor eficiente e um controle preciso da temperatura dentro do forno de crescimento. Em outras palavras, significa ciclos de aquecimento e resfriamento mais rápidos, redução do consumo de energia e, em última análise, menor custo por cristal produzido.
Resistência Inabalável: O campo térmico de grafite foi projetado para suportar as condições adversas inerentes ao crescimento do silício monocristalino. Sua resistência inerente à corrosão garante estabilidade a longo prazo e evita a contaminação do cristal em crescimento por componentes degradados. Além disso, a natureza não oxidante do Campo Térmico de Grafite elimina a formação de óxidos indesejados, preservando a pureza do ambiente de crescimento e garantindo qualidade cristalina consistente.
Pureza em sua essência:A Semicorex entende que atingir os mais altos níveis de desempenho de semicondutores começa com uma pureza excepcional do material. O Campo Térmico de Grafite é fabricado a partir de grafite isostática de altíssima pureza, meticulosamente processada para minimizar impurezas que podem impactar negativamente o crescimento do cristal. Este compromisso com a pureza garante a produção de cristais de silício de alta qualidade com as características elétricas desejadas.
Construído para durar:A robusta resistência mecânica do Campo Térmico de Grafite garante sua capacidade de suportar os exigentes ciclos térmicos e tensões mecânicas inerentes aos processos de crescimento de cristais. Essa durabilidade se traduz em vida útil prolongada dos componentes, requisitos de manutenção reduzidos e, em última análise, um custo total de propriedade mais baixo.
Sistema de campo térmico de forno de extração monocristalino
O campo térmico de grafite isostática de alta pureza da Semicorex oferece uma proposta de valor atraente para fabricantes de silício de cristal único:
Eficiência Energética:O design térmico otimizado e a alta condutividade elétrica contribuem para reduzir o consumo de energia e reduzir os custos operacionais.
Produtos de alto valor:A excepcional pureza do material e os perfis de aquecimento uniformes permitem o crescimento de cristais de alta qualidade, maximizando o rendimento e aumentando o valor do produto final.
Baixa manutenção:Materiais robustos e engenharia meticulosa minimizam o desgaste, reduzindo os requisitos de manutenção e prolongando a vida útil dos componentes.