Chuck de grafite
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Chuck de grafite

O Chuck de grafite semicorex é um componente crucial na fabricação de polissilício, amplamente utilizado na indústria solar. À medida que a demanda por bolachas de silício de alta pureza aumenta, a necessidade de ferramentas de processamento de alto desempenho, como os chucks de grafite, tornou-se essencial. Fabricados a partir de grafite especial de alta pureza, nossos chucks de grafite são projetados para suportar temperaturas extremas, exposição química e tensões mecânicas, mantendo a estabilidade dimensional.*

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Descrição do produto

Semicorex grafite chuck é projetado degrafite especializada, reconhecido por sua excelente resistência térmica e química. Um exemplo exclusivo de um mandril de grafite que foi projetado especificamente a partir dessa forma de grafite porque é conhecida por sua resistência muito alta aos produtos químicos e ao calor. Isso torna os tocos muito duradouros e eles se apresentarão nas condições mais difíceis em uso na deposição de vapor químico (CVD) ou gravação de plasma ou mesmo em um forno de alta temperatura. Como tal, a alta pureza com impurezas muito baixas já significaria que elas não causariam contaminação durante a produção de polissilício. Eles são capazes de gerar temperaturas muito acima de 2000 ° C sem nenhuma deformação notável, pois são muito estáveis ​​através do aumento da temperatura. Além disso, eles também têm resistência superior à maioria dos produtos químicos e, portanto, sobreviverão em condições muito difíceis, como no ácido clorídrico (HCl) ou tetracloreto de silício (Sicl4). Alta força mecânica significa ainda que o mandril é capaz de reter sua forma mesmo quando submetido a uma carga contínua.


O Chuck de grafite é fundamental no processamento de bolas e no crescimento de cristais; Eles desempenham um papel primário em toda a fabricação em qualquer estágio, como a deposição de vapor químico (DCV), onde garante deposição uniforme de silício. Durante o fatiamento e o polimento, eles fornecem suporte estável para corte de wafer e acabamento na superfície. No processamento térmico, eles atuam como uma base resistente ao calor para os processos de recozimento e doping de wafer de silício, aumentando significativamente a eficiência e a qualidade da linha de produção.


Como garantimos a uniformidade do desempenho do nossografite?


Primeiro, carbonização. Nosso forno tem apenas 115 metros cúbicos. Nossa equipe técnica testará o campo de temperatura dos produtos de grafite em diferentes áreas de cada forno. No estado de baixa temperatura (0-200 °) quando a temperatura começar a subir, vamos controlá-lo a cerca de ± 10 ° e no estado de alta temperatura (acima de 600 °), o controlaremos a ± 1 °. Não apenas testaremos o campo de temperatura entre diferentes grafites, mas também testaremos a superfície e a temperatura interna de cada peça de material de grafite e a controlamos a ± 3 °. Testamos 8 pontos de temperatura em cada forno no forno de carbonização.


O segundo é a grafitização. Tomando 500 kg como exemplo, também testaremos 8 pontos de temperatura. As amostras são inspecionadas aleatoriamente em qualquer posição do produto grafitizado para testes destrutivos. Após a destruição, 24 pontos são testados. Os testes são realizados separadamente do eixo XYZ para garantir sua uniformidade. A maioria das empresas do setor testará apenas o eixo X ou no máximo o eixo XY.


Os fabricantes gerais testam apenas 6-8 pontos, e os melhores testam 12 pontos, enquanto testamos 24 pontos.


O Chuck de grafite semicorex é uma solução indispensável para os fabricantes de polissilício que buscam ferramentas de alto desempenho, confiável e econômico. Com propriedades avançadas de materiais e engenharia de precisão, nosso produto aprimora a eficiência e a qualidade da produção de wafer de silício na indústria solar. Para obter mais informações ou especificações personalizadas, entre em contato conosco hoje.


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