O pedestal de quartzo fundido foi projetado especificamente para uso em deposição de camada atômica (ALD), deposição química de vapor de baixa pressão (LPCVD) e processos de difusão, garantindo a deposição uniforme de filmes finos em superfícies de wafer.**
Na fabricação de semicondutores, o pedestal de quartzo fundido serve como estrutura de suporte para o barco de quartzo, que segura os wafers. Ao manter uma temperatura constante, ajuda a obter uma deposição uniforme de filmes finos, um fator crítico para o desempenho e a confiabilidade dos dispositivos semicondutores. O pedestal garante que a distribuição térmica e de luz dentro da câmara de processo seja uniforme, melhorando assim a qualidade geral do processo de deposição.
Vantagens do material de quartzo fundido
1. Resistência a altas temperaturas
O pedestal de quartzo fundido possui um ponto de amolecimento de aproximadamente 1730°C, permitindo-lhe suportar uso prolongado em temperaturas que variam de 1100°C a 1250°C. Além disso, pode suportar exposição de curto prazo a temperaturas tão elevadas como 1450°C.
2. Resistência à corrosão
O pedestal de quartzo fundido é quimicamente inerte à maioria dos ácidos, com exceção do ácido fluorídrico. Sua resistência aos ácidos supera a da cerâmica em 30 vezes e a do aço inoxidável em 150 vezes. Em temperaturas elevadas, nenhum outro material pode igualar a estabilidade química do quartzo fundido, tornando-o uma escolha ideal para ambientes químicos agressivos.
3. Estabilidade Térmica
Uma das características de destaque do pedestal de quartzo fundido é seu coeficiente mínimo de expansão térmica. Esta propriedade permite resistir a mudanças severas de temperatura sem rachar. Por exemplo, ele pode ser rapidamente aquecido até 1100°C e depois imerso em água à temperatura ambiente sem sofrer danos – uma característica essencial para processos de fabricação de alto estresse.
Processo de Fabricação
O processo de fabricação do pedestal de quartzo fundido é meticulosamente controlado para garantir os mais altos padrões de qualidade. Os pedestais são produzidos através de processos de termoformagem e soldagem realizados em ambientes de sala limpa de classe 10.000 ou superior. Limpeza posterior com água ultrapura (18 MΩ)garante ainda mais a pureza e o desempenho do produto. Cada pedestal de quartzo fundido passa por rigorosa inspeção, limpeza e embalagem em uma sala limpa classe 1.000 ou superior para atender aos rigorosos requisitos de fabricação de semicondutores.
Material de quartzo opaco de alta pureza
Para bloquear eficazmente o calor e a luz, o pedestal de quartzo fundido utiliza material de quartzo opaco de alta pureza. As propriedades exclusivas deste material melhoram a capacidade do pedestal de manter uma temperatura estável e uniforme dentro da câmara de processo, garantindo assim a qualidade consistente da deposição de filme fino em wafers.
Ampla gama de aplicações
As propriedades excepcionais do pedestal de quartzo fundido o tornam adequado para uma variedade de aplicações na indústria de semicondutores. Nos processos ALD, suporta o controle preciso do crescimento de filmes finos em nível atômico, essencial para a produção de dispositivos semicondutores avançados. Durante os processos LPCVD, a estabilidade térmica e a capacidade de bloqueio de luz do pedestal contribuem para a deposição uniforme do filme, melhorando o desempenho e o rendimento do dispositivo.
Em processos de difusão, a resistência a altas temperaturas e a inércia química do pedestal de quartzo fundido garantem dopagem confiável e consistente de materiais semicondutores. Esses processos são críticos para definir as propriedades elétricas de dispositivos semicondutores, e o uso de materiais de alta qualidade como o quartzo fundido é essencial para alcançar resultados ideais.