Mandril de vácuo cerâmico de alumina

O mandril de vácuo cerâmico de alumina Semicorex desempenha um papel essencial nas fases de desbaste e moagem do wafer na fabricação de semicondutores. Esses estágios envolvem a redução meticulosa da espessura do substrato do wafer para aumentar a dissipação de calor do chip, o que é vital para melhorar a eficiência e a longevidade dos dispositivos semicondutores. Diluir wafers de acordo com especificações precisas também é crucial para facilitar técnicas avançadas de embalagem.

Compatibilidade com vários tamanhos de wafer

O mandril de vácuo de cerâmica de alumina foi projetado para suportar uma ampla variedade de tamanhos de wafer, incluindo 2, 3, 4, 5, 6, 8 e 12 polegadas. Essa adaptabilidade o torna adequado para uma ampla variedade de ambientes de produção de semicondutores, garantindo desempenho consistente e confiável em diferentes dimensões de wafer.

Composição de materiais superiores

A base do mandril de vácuo de cerâmica de alumina é construída com 99,99% de alumina (Al2O3) ultrapura, que oferece resistência excepcional a ataques químicos e estabilidade térmica. A superfície de adsorção é feita de carboneto de silício poroso (SiC). A estrutura compacta e uniforme do material cerâmico poroso aumenta sua durabilidade e desempenho.

Benefícios da tecnologia cerâmica microporosa

Planicidade e paralelismo aprimorados: O mandril de vácuo de cerâmica de alumina microporoso oferece planicidade e paralelismo excepcionais, garantindo manuseio e estabilidade precisos do wafer.

Porosidade e respirabilidade ideais: Os microporos bem distribuídos fornecem permeabilidade ao ar superior e força de adsorção uniforme, levando a uma operação suave e consistente.

Pureza e durabilidade do material: Feito de alumina 99,99% pura, nosso mandril de vácuo cerâmico de alumina é resistente a ataques químicos e oferece notável estabilidade térmica, tornando-o adequado para ambientes de fabricação exigentes.

Projetos personalizáveis: Oferecemos uma variedade de formatos personalizáveis, incluindo designs circulares, quadrados, em loop e em forma de L, com opções de espessura que variam de 3 MM a 10 MM. Essa personalização garante que nosso mandril de vácuo cerâmico de alumina atenda às necessidades específicas de diferentes processos de fabricação de semicondutores.

Diversas opções de materiais de base: Com base nos requisitos de planicidade e custos de produção, fornecemos recomendações para diferentes materiais de base, como aço inoxidável SUS430, liga de alumínio 6061, cerâmica de alumina densa (cor marfim), granito e cerâmica de carboneto de silício densa. Cada material é escolhido para otimizar o peso e o desempenho do mandril de vácuo cerâmico de alumina.