Mandril de vácuo Al2O3

Aplicações na fabricação de semicondutores

SemicorexAl2O3 Vacuum Chuck é uma ferramenta versátil usada em vários estágios de produção de semicondutores:

Desbaste: Durante o processo de desbaste do wafer, o mandril de vácuo Al2O3 fornece suporte estável e uniforme, garantindo redução de substrato de alta precisão. Isso é crucial para melhorar a dissipação de calor do chip e melhorar o desempenho do dispositivo.

Corte em cubos: Na etapa de corte em cubos, onde os wafers são cortados em chips individuais, o mandril a vácuo Al2O3 oferece adsorção segura e estável, minimizando o risco de danos e garantindo cortes limpos.

Limpeza: A superfície de adsorção lisa e uniforme do mandril de vácuo Al2O3 o torna adequado para processos de limpeza de wafers, garantindo que os contaminantes sejam removidos de forma eficaz sem danificar os wafers.

Transporte: Durante o manuseio e transporte do wafer, o mandril de vácuo Al2O3 fornece suporte confiável e seguro, reduzindo o risco de danos e contaminação.

SemicorexVácuoMandril Fluxo

Vantagens do mandril de vácuo Semicorex Al2O3

1. Tecnologia cerâmica microporosa uniforme

O Mandril de Vácuo Al2O3 é construído usando tecnologia cerâmica microporosa, que envolve o uso de nanopós de tamanho uniforme. Esta tecnologia garante que os poros sejam distribuídos e interligados uniformemente, resultando em alta porosidade e uma estrutura uniformemente densa. Essa uniformidade melhora o desempenho do mandril a vácuo, proporcionando suporte de wafer consistente e confiável.

2. Propriedades excepcionais do material

A alumina ultrapura 99,99% (Al2O3) usada no mandril de vácuo Al2O3 oferece uma gama de propriedades excepcionais:

Propriedades térmicas: Com alta resistência ao calor e excelente condutividade térmica, o mandril de vácuo Al2O3 pode suportar as altas temperaturas comumente encontradas na fabricação de semicondutores.

Propriedades Mecânicas: A alta resistência e dureza da Alumina garantem que o Mandril de Vácuo Al2O3 seja durável e resistente ao desgaste, proporcionando desempenho duradouro.

Outras propriedades: A alumina também oferece alto isolamento elétrico e resistência à corrosão, tornando o mandril de vácuo Al2O3 adequado para uma ampla variedade de ambientes de fabricação.

3. Planicidade e paralelismo superiores

Uma das principais vantagens do mandril de vácuo Al2O3 é sua alta planicidade e paralelismo. Essas propriedades são cruciais para garantir o manuseio preciso e estável do wafer, minimizando o risco de danos e garantindo resultados de processamento consistentes. Além disso, a boa permeabilidade ao ar e a força de adsorção uniforme do mandril de vácuo Al2O3 garantem uma operação suave e confiável.

4. Opções de personalização

Na Semicorex, entendemos que cada processo de fabricação de semicondutores possui requisitos únicos. É por isso que oferecemos mandris de vácuo personalizados para atender às suas necessidades específicas. Dependendo da planicidade necessária e dos custos de produção, recomendamos diferentes materiais de base, garantindo que o peso e o desempenho do mandril de vácuo sejam otimizados para sua aplicação. Esses materiais incluem aço inoxidável SUS430, liga de alumínio 6061, cerâmica de alumina densa (cor marfim), granito e cerâmica densa de carboneto de silício.

Medição do mandril CMM do vácuo Al2O3