O que é gravação a plasma em baixa temperatura?

O plasma é o quarto estado da matéria e desempenha um papel crucial tanto nas aplicações industriais como nos fenómenos naturais. Por exemplo, o plasma está presente nos relâmpagos e é gerado abundantemente na superfície do Sol, onde a temperatura central atinge espantosos 13.500°C. Este plasma de alta temperatura não é adequado para a maioria dos processos de produção industrial.

Por outro lado, o plasma de baixa temperatura é uma forma de plasma criada artificialmente que utiliza energia, em vez de calor, para acelerar reações químicas. Sua temperatura normalmente varia da temperatura ambiente a várias centenas de graus Celsius, tornando-o altamente eficaz para diversas aplicações.

Etapas para gerar plasma artificial:

1. Reduza a pressão na câmara: comece usando uma bomba de vácuo para diminuir a pressão na cavidade. Alcançar baixa pressão é essencial para estabilizar o plasma e facilitar a ionização do gás.

2. Introduzir gás de processo: Injete gases de processo específicos na cavidade. Esses gases servem como fonte primária de partículas no plasma.

3. Excite o Plasma: Aplique energia para ionizar o gás, formando efetivamente o plasma.

4. Desative o Plasma e Restaure a Pressão Atmosférica: Assim que as reações desejadas forem concluídas, desligue o plasma e retorne a câmara à pressão atmosférica.

Aplicações de plasma de baixa temperatura na fabricação de semicondutores:

O plasma de baixa temperatura é indispensável na fabricação de semicondutores, servindo funções críticas em gravação a seco, deposição física de vapor (PVD), deposição química de vapor (CVD), deposição de camada atômica (ALD), implantação de íons, cinzas e detecção de ponto final. Sua versatilidade e eficiência fazem dele uma ferramenta fundamental na indústria.

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