MOCVD é o equipamento chave

O equipamento MOCVD é o equipamento chave no processo de produção da indústria de semicondutores, mas também uma grande proporção do investimento em equipamentos na cadeia da indústria de semicondutores (três processos e equipamentos principais: litografia, gravura, deposição de filme fino), investimento na linha de produção de LED, MOCVD valor do investimento pode representar até 50%. Nos equipamentos CVD, o substrato não pode ser colocado diretamente sobre o metal ou simplesmente colocado em cima de uma base para deposição epitaxial, pois envolve a influência de vários fatores como direção do fluxo de gás (horizontal, vertical), temperatura, pressão, fixação , derramando contaminantes. Portanto, uma base é usada e o substrato é colocado em um disco e, em seguida, é realizada a deposição epitaxial no topo do substrato usando a tecnologia CVD. Esta base é o grafite revestido com SiCsusceptor(que também pode ser chamado deoperadora), e sua estrutura é mostrada na figura abaixo.