Conhecendo GaN

Recentemente, a indústria de semicondutores continuou a prestar cada vez mais atenção aosNitreto de gálio (GaN)tecnologia. Devido às suas excelentes propriedades eletrônicas, os dispositivos de nitreto de gálio têm aplicações importantes em muitos campos de alta tecnologia:

1. Campo optoeletrônico:Nitreto de gálioé um material chave para a fabricação de dispositivos optoeletrônicos, como iluminação LED e lasers.

2. Campo de radiofrequência: Na tecnologia de comunicação 5G,Nitreto de gáliotornou-se um componente central devido às suas características de alta frequência e alta densidade de potência.

3. Eletrônica de potência:Nitreto de gáliodispositivos de energia melhoram a eficiência do carregamento e reduzem o tamanho do carregador na tecnologia de carregamento rápido. Eles também são amplamente utilizados em energia fotovoltaica, data centers, veículos elétricos e outros campos.

A escolha do substrato para umGaNdispositivo tem um impacto significativo em seu desempenho e custo:

1. Safira: Devido ao seu processo de fabricação maduro, o substrato de safira oferece uma solução econômica, especialmente na área de iluminação LED.

2. Carboneto de silício (SiC): Embora mais caros, os substratos de SiC fornecem excelente condutividade térmica e são adequados para aplicações de alta potência e radiofrequência.

3. Silício (Si): Os substratos à base de silício são de baixo custo e compatíveis com os processos existentes de fabricação de semicondutores, tornando-os adequados para produção em massa.

4. Nitreto de gálio homogêneo (GaN-sobre-GaN): Em teoria, é a escolha ideal, mas devido a restrições técnicas e de custos, ainda não foi amplamente comercializada.