ESC Mandril

O Semicorex ESC Chuck utiliza forças eletrostáticas para manter o controle preciso sobre a posição do wafer, garantindo alta precisão e repetibilidade em ambientes de fabricação de semicondutores. O design do mandril ESC, juntamente com sua seleção robusta de materiais e dimensões personalizáveis, tornam-no uma ferramenta versátil e essencial em processos como gravação, deposição e implantação iônica.

O mandril ESC funciona aplicando um campo eletrostático de alta tensão entre os eletrodos do mandril e o wafer, criando uma força atrativa que mantém o wafer no lugar. O wafer, normalmente feito de silício ou carboneto de silício, é protegido por essa força, permitindo operações precisas em ambientes de alto vácuo. Este sistema elimina a necessidade de fixação mecânica ou mandril a vácuo, que pode introduzir contaminantes ou distorcer o wafer. Ao usar um mandril ESC, os fabricantes podem obter um ambiente mais limpo e estável para processos de fabricação delicados, levando a rendimentos mais elevados e resultados mais consistentes.

Uma das principais vantagens da tecnologia ESC é a sua capacidade de manter um aperto firme no wafer enquanto distribui a força uniformemente por toda a sua superfície. Isso garante que o wafer permaneça plano e estável, o que é crucial para obter gravação ou deposição uniforme, especialmente em processos onde é necessária precisão submicrométrica. As dimensões personalizáveis ​​do mandril ESC permitem acomodar wafers de diferentes tamanhos, desde wafers padrão de 200 mm e 300 mm até tamanhos especializados e não padronizados usados ​​em pesquisa e desenvolvimento ou na produção de dispositivos semicondutores de nicho.

Os materiais utilizados na construção do mandril ESC são cuidadosamente selecionados para garantir compatibilidade com os ambientes agressivos normalmente encontrados no processamento de semicondutores. A alumina cerâmica de alta pureza é usada devido às suas excelentes propriedades de isolamento elétrico, estabilidade térmica e resistência à corrosão por plasma. Estas propriedades permitem que o mandril funcione eficazmente em condições de alta temperatura e alto vácuo, proporcionando a durabilidade e a confiabilidade necessárias para uso a longo prazo em um ambiente de sala limpa.

A personalização é outro benefício significativo dos mandris ESC. Dependendo dos requisitos específicos de um processo de fabricação de semicondutores, as dimensões do mandril, as configurações dos eletrodos e as composições dos materiais podem ser adaptadas para atender às necessidades exclusivas do equipamento e dos wafers que estão sendo processados. Quer a aplicação envolva gravação a plasma, deposição química de vapor (CVD) ou deposição física de vapor (PVD), o mandril ESC pode ser projetado para otimizar o desempenho e manter a integridade do wafer durante o processamento.